สื่อเผย จีนสามารถสร้างเครื่องผลิตชิป EUV เครื่องต้นแบบได้สำเร็จ อาศัยอดีตพนักงาน ASML ช่วย

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนกำลังก้าวกระโดดทางเทคโนโลยีครั้งสำคัญ หลังจากมีรายงานว่า จีนสามารถพัฒนาเครื่องต้นแบบ EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) ที่ผลิตขึ้นเองภายในประเทศได้สำเร็จ

หลายปีที่ผ่านมา จีนพยายามผลักดันการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยี EUV อย่างจริงจัง โดยมีบริษัทอย่าง SMIC เป็นแกนหลักในการพยายามไล่ตามเทคโนโลยีของ ASML ผ่านการ reverse-engineering อีกทั้งมีการดึงตัวบุคลากรผู้เชี่ยวชาญเฉพาะด้านนี้จากต่างประเทศ ล่าสุด สำนักข่าว Reuters เผยว่า ความพยายามทั้งหมดเริ่มเป็นรูปเป็นร่าง เมื่อจีนสามารถพัฒนาต้นแบบ EUV ที่สามารถใช้งานได้จริงด้วย อาศัยความช่วยเหลือจากอดีตวิศวกรของ ASML

เดือนเมษายนที่ผ่านมา ซีอีโอของ ASML คริสตอฟ ฟูเกต์ (Christophe Fouquet) เคยกล่าวว่าจีนจะต้องใช้เวลาอีกหลายปีในการพัฒนาเทคโนโลยี EUV ให้สำเร็จได้เอง แต่การที่ Reuters รายงานว่าจีนสามารถทำเครื่อง EUV ได้สำเร็จ แม้จะเป็นเครื่องต้นแบบกลับชี้ให้เห็นว่าจีนอาจเข้าใกล้เป้าหมายการพึ่งพาตนเองด้านเซมิคอนดักเตอร์เร็วกว่าที่นักวิเคราะห์คาดการณ์ไว้หลายปี

เครื่อง EUV เป็นระบบที่มีความซับซ้อนสูง ตอนนี้ยังไม่มีข้อมูลชัดเจนว่าทีมวิศวกรจีนใช้เทคนิคใดในการพัฒนาต้นแบบดังกล่าว แหล่งที่มาระบุแค่ว่ามีการนำชิ้นส่วนจากเครื่อง ASML รุ่นเก่ามาใช้งาน และที่สำคัญคือ เครื่องนี้ยังไม่สามารถนำไปผลิตชิปจริงได้ อย่างไรก็ดี แหล่งข่าวประเมินว่า จีนอาจสามารถทำให้เทคโนโลยี EUV ถูกนำมาใช้จริงได้ภายในปี 2030 ซึ่งถือว่าเร็วกว่าที่หลายฝ่ายคาดการณ์เอาไว้อย่างมาก

ภายใต้กระแสของ AI ความต้องการชิปที่ผลิตได้เองภายในประเทศจีนเพิ่มสูงขึ้นอย่างมาก Huawei เองก็เร่งการผลิตชิปผ่าการร่วมมือกับ SMIC ด้วย

ที่มา WCCFTECH

วัชรกุล พัฒนาประทีป