อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนกำลังก้าวกระโดดทางเทคโนโลยีครั้งสำคัญ หลังจากมีรายงานว่า จีนสามารถพัฒนาเครื่องต้นแบบ EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) ที่ผลิตขึ้นเองภายในประเทศได้สำเร็จ หลายปีที่ผ่านมา จีนพยายามผลักดันการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยี EUV อย่างจริงจัง โดยมีบริษัทอย่าง SMIC เป็นแกนหลักในการพยายามไล่ตามเทคโนโลยีของ ASML ผ่านการ reverse-engineering อีกทั้งมีการดึงตัวบุคลากรผู้เชี่ยวชาญเฉพาะด้านนี้จากต่างประเทศ ล่าสุด สำนักข่าว Reuters เผยว่า ความพยายามทั้งหมดเริ่มเป็นรูปเป็นร่าง เมื่อจีนสามารถพัฒนาต้นแบบ EUV ที่สามารถใช้งานได้จริงด้วย อาศัยความช่วยเหลือจากอดีตวิศวกรของ ASML เดือนเมษายนที่ผ่านมา
